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胶体磨的改进结构设计和增设现代控制技术
日期:2012-12-16 查看:20750

      改进结构设计和增设现代控制技术方面:
      A、在调节盘后方和静磨片前面设置活动垫圈,替代传统的平面、轴承滑动作用,减少调节盘活动公差,并且在无润滑油的情况下,增强调节盘的调节灵巧,结构简单、精度高,稳定好。
      B、胶体磨的转子、定子采用锥形设计一体化,同时本机器采用定位盘定位结构,使转子、定子的间距调节进退平稳,操作简便,能够达到迅速到位。

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